foto: Divulgação/Parque Tecnológico da UFRJ
A Galeria Curto Circuito de Arte Pública, do Parque Tecnológico da Universidade Federal do Rio de Janeiro (UFRJ), conquistou na quinta-feira, 26/9, em Nantes, na França, o 3º lugar no prêmio Inspiring Solutions 2019, promovido pela Associação Internacional de Parques Tecnológicos e Áreas de Inovação (Iasp).
A Galeria é um projeto em parceria com a Escola de Belas Artes (EBA) da UFRJ e vem transformando o Parque em um laboratório vivo para a experimentação da arte, unindo tecnologia e inovação. Criada em 2017, já expôs 58 trabalhos e intervenções urbanísticas de mais de 200 artistas convidados, alunos e professores da Universidade.
“Ganhar o prêmio Inspiring Solutions 2019 com o projeto Galeria Curto Circuito de Arte Pública é uma prova de que vale a pena investir na transdisciplinaridade. A arte está em tudo e o mundo reconhece isso. O que estamos fazendo é unir pensamento científico e criativo, para que a tecnologia e a arte andem de mãos dadas. Acreditamos que um parque tecnológico também é um local de encontros e conexões, e queremos que este seja um ambiente inspirador”, afirmou Leonardo Melo, gerente de Desenvolvimento Institucional do Parque.
O Programa de Soluções Inspiradoras da Iasp é uma iniciativa que tem como objetivo o compartilhamento de conhecimento, ideias, soluções e projetos inovadores de parques científicos e tecnológicos e ambientes de inovação do mundo todo.