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Memória

Parque Tecnológico da UFRJ é finalista em prêmio internacional

Galeria Curto Circuito de Arte Pública concorre com projetos de países como China, Áustria, Estados Unidos e Estônia


Foto: Diogo Vasconcellos (Coordcom/UFRJ)

A Galeria Curto Circuito de Arte Pública, localizada no Parque Tecnológico, é uma das dez finalistas do prêmio Inspiring Solutions, da Associação Internacional de Parques Tecnológicos e Áreas de Inovação (Iasp). Feito em parceria com a Escola de Belas Artes (EBA), o projeto vem transformando o Parque em espaço de experimentações em arte, tecnologia e inovação.

A UFRJ concorre com iniciativas de países como China, Áustria, Estados Unidos e Estônia. Além do Rio de Janeiro, o Rio Grande do Sul representa o Brasil na premiação.

Criada em 2017, a Galeria já expôs 58 trabalhos e intervenções urbanísticas de mais de 200 artistas convidados, alunos e professores da Universidade. “Nossa ideia é unir pensamento científico e pensamento criativo, fazendo com que tecnologia e arte andem de mãos dadas. A gente acredita que um Parque Tecnológico é também um local de encontros e conexões e queremos que este seja ambiente inspirador”, diz José Carlos Pinto, diretor executivo do Parque.  

Ao espalhar arte por suas ruas e fachadas de forma gratuita e aberta ao público, o Parque assume o objetivo de aproximar a ciência da sociedade. Quer saber mais sobre a Galeria? Assista a este vídeo. Clique aqui e conheça o prêmio Inspiring Solutions. Acesse também a página www.parque.ufrj.br